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玻璃的真空蒸發(fā)鍍膜原理

2023-07-28

　　真空蒸發(fā)鍍膜的物理過程
　　將膜材置于真空室內(nèi)的蒸發(fā)源中，在高真空條件下，通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，膜材蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，且當蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后，很少收到其他分子或原子的碰撞與阻礙，可直接到達被鍍的基片表面上，由于基片溫度較低，膜材蒸氣粒子凝結(jié)其上而成膜。為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力，對基片進行適當?shù)募訜峄螂x子清洗使其活化是必要的。
　　真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)輸運到沉積成膜，經(jīng)歷的物理過程為：
　?。?）采用各種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量（01～0.3eV）的氣態(tài)粒子（原子、分子或原子團）；
　?。?）離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基片表面；
　　（3）到達基片表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜；
　　（4）組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學鍵合。
　　為使蒸發(fā)鍍膜順利進行，應具備兩個條件：蒸發(fā)過程中的真空條件和鍍膜過程中的蒸發(fā)條件。

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